一種高分離選擇性純硅沸石復(fù)合膜及其制備方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910156178.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN109745871B 公開（公告）日 2020-03-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN109745871B 申請(qǐng)公布日 2020-03-10
分類號(hào) B01D71/02;B01D69/12;B01D67/00;B01D53/22;B01D17/022 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 肖偉;彭輝 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇賽清科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京華仁聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 江蘇賽清科技有限公司;浙江賽時(shí)科技有限責(zé)任公司
地址 210043 江蘇省南京市江北新區(qū)惠達(dá)路9號(hào)A座1層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種高分離選擇性純硅沸石復(fù)合膜，該純硅沸石復(fù)合膜包括多孔載體層和沸石分離層兩部分，其中多孔載體層為多孔載體，沸石分離層由亞微米級(jí)沸石粒子組成，且沿著大孔載體的粗糙、凹凸表面緊密排列，同時(shí)，載體層與分離層結(jié)構(gòu)緊湊，沸石復(fù)合膜整體無缺陷，顯示出良好的氣體混合物或液體混合物分離選擇性能。