一種MOCVD設(shè)備及其反應(yīng)室密封結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201020287647.4 申請日 -
公開（公告）號 CN201793731U 公開（公告）日 2011-04-13
申請公布號 CN201793731U 申請公布日 2011-04-13
分類號 C23C16/44(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 吳智洪 申請（專利權(quán)）人 上海昀豐光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 上海昀豐光電技術(shù)有限公司;浙江昀豐新材料科技股份有限公司
地址 201201 上海市張江高科技產(chǎn)業(yè)東區(qū)勝利路836號7幢甲501
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種MOCVD反應(yīng)室密封結(jié)構(gòu)，包括：水冷電極內(nèi)外管套軸，其上設(shè)有供四個水冷電極外管穿過的四個套管安裝孔以及熱電偶安裝孔，水冷電極內(nèi)外管套軸套設(shè)在四個水冷電極外管上，石墨托盤轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動的套設(shè)在水冷電極內(nèi)外管套軸上；設(shè)置在石墨托盤轉(zhuǎn)軸和水冷電極內(nèi)外管套軸之間的內(nèi)圖磁流體；套裝在石墨托盤轉(zhuǎn)軸上并固定在機(jī)架安裝板上的磁流體座；設(shè)置在石墨托盤轉(zhuǎn)軸和磁流體座之間的外圈磁流體。本實用新型通過分別在石墨托盤轉(zhuǎn)軸與水冷電極內(nèi)外管套軸、石墨托盤轉(zhuǎn)軸與磁流體座之間設(shè)置磁流體，實現(xiàn)密封。不需要用N2去實現(xiàn)反應(yīng)室腔體內(nèi)外的隔絕。本實用新型還公開了一種具有上述密封結(jié)構(gòu)的MOCVD設(shè)備。