半透半反顯示面板中的陣列基板及半透半反顯示面板

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121532784.4 申請日 -
公開（公告）號 CN216052545U 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN216052545U 申請公布日 2022-03-15
分類號 G02F1/1368（2006.01）I;G02F1/1362（2006.01）I;G02F1/1343（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 趙約瑟;蔡昌宇;顏金成;王凱;喬傳興 申請（專利權(quán)）人 深圳萊寶高科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 趙智博
地址 518000廣東省深圳市光明新區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)五號路9號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種半透半反顯示面板中的陣列基板及半透半反顯示面板。所述陣列基板包括襯底基板、設(shè)置于襯底基板上的像素結(jié)構(gòu)層及反射層；像素結(jié)構(gòu)層包括設(shè)置于所述襯底基板上的柵電極、半導(dǎo)體層、源漏電極、公共電極及像素電極，其中，所述公共電極與所述柵電極或所述源漏電極同層設(shè)置；反射層包括反射基底及設(shè)置于所述反射基底上的反射膜層，所述反射基底及所述反射膜層設(shè)置于所述像素結(jié)構(gòu)層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)且與所述像素電極對應(yīng)設(shè)置，所述反射膜層的面積小于所述像素電極的面積。本實(shí)用新型提供的半透半反顯示面板中的陣列基板及半透半反顯示面板，制作工序簡單，產(chǎn)品良率高。