大氣壓下離子源裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201420387048.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN203941876U | 公開(kāi)(公告)日 | 2014-11-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN203941876U | 申請(qǐng)公布日 | 2014-11-12 |
分類號(hào) | H01J49/04(2006.01)I;H01J49/00(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 俞建成;聞路紅;林群英;王海星;趙鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 寧波大學(xué)資產(chǎn)經(jīng)營(yíng)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 315211 浙江省寧波市風(fēng)華路818號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種大氣壓下離子源裝置,所述離子源裝置包括離子源,進(jìn)一步包括:螺旋線圈,所述螺旋線圈設(shè)置在所述離子源的出射端的下游,螺旋線圈的軸線彎曲;電流源,所述電流源設(shè)置所述螺旋線圈的頭端和尾端之間。本實(shí)用新型具有靈敏度高、溶劑干擾極小等優(yōu)點(diǎn),并有助于降低質(zhì)譜分析系統(tǒng)的真空度要求、體積。 |
