一種用于濺射設(shè)備真空室壁的內(nèi)襯膜及制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811638327.6 申請日 -
公開(公告)號 CN109719021A 公開(公告)日 2019-05-07
申請公布號 CN109719021A 申請公布日 2019-05-07
分類號 B05D7/24(2006.01)I; B05D7/02(2006.01)I; B05D7/00(2006.01)I; C23C14/34(2006.01)I 分類 一般噴射或霧化;對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 周利紅; 黃平建 申請(專利權(quán))人 寧波高新區(qū)敦和科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 315040 浙江省寧波市高新區(qū)江南路1558號8樓8086-16室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于濺射設(shè)備真空室壁的內(nèi)襯膜及制備方法,所述內(nèi)襯膜由基底層、離型層、膠粘層、薄膜層組成,所述膠粘層和所述薄膜層由可降解高分子材料組成。本發(fā)明制備的內(nèi)襯膜用于保護(hù)濺射設(shè)備的真空室壁,使之免于在進(jìn)行濺射工藝時被污染,使得所得真空室易于清潔,有效延長了濺射設(shè)備真空室的使用壽命,由于所用的制備材料由于主要是可降解高分子材料,所以能更為快捷再回收利用靶材材料,且不帶入雜質(zhì),從而提高濺射靶材的利用率。