一種用于濺射設(shè)備真空室壁的內(nèi)襯膜及制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811638327.6 申請日 -
公開（公告）號 CN109719021A 公開（公告）日 2019-05-07
申請公布號 CN109719021A 申請公布日 2019-05-07
分類號 B05D7/24（2006.01）I; B05D7/02（2006.01）I; B05D7/00（2006.01）I; C23C14/34（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 周利紅; 黃平建 申請（專利權(quán)）人 寧波高新區(qū)敦和科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 315040 浙江省寧波市高新區(qū)江南路1558號8樓8086-16室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種用于濺射設(shè)備真空室壁的內(nèi)襯膜及制備方法，所述內(nèi)襯膜由基底層、離型層、膠粘層、薄膜層組成，所述膠粘層和所述薄膜層由可降解高分子材料組成。本發(fā)明制備的內(nèi)襯膜用于保護(hù)濺射設(shè)備的真空室壁，使之免于在進(jìn)行濺射工藝時被污染，使得所得真空室易于清潔，有效延長了濺射設(shè)備真空室的使用壽命，由于所用的制備材料由于主要是可降解高分子材料，所以能更為快捷再回收利用靶材材料，且不帶入雜質(zhì)，從而提高濺射靶材的利用率。