一種密集型光波復用濾光片

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202011023350.1 申請日 -
公開（公告）號 CN112099124A 公開（公告）日 2020-12-18
申請公布號 CN112099124A 申請公布日 2020-12-18
分類號 G02B5/28;G02B1/14;G02B1/115;G02B6/293 分類 光學;
發(fā)明人 陳信源;何偉峰;溫勇健 申請（專利權）人 廣州市佳禾光電科技有限公司
代理機構 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 代理人 廣州市佳禾光電科技有限公司
地址 510535 廣東省廣州市黃埔區(qū)云埔工業(yè)區(qū)觀達路7號C棟三樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種密集型光波復用濾光片，包括基體及分別覆設在基體兩個相對表面的濾光層、抗放射層，濾光層相對于基體的表面還設有抗刮層，當后續(xù)需要進行拋光操作時，能夠防止濾光層因摩擦受損，確保濾光片的良率；同時，組成濾光層的一號介質亞層的構成材料采用了氫化硅，使濾光層的總層數得以降至不大于84層，且層厚得以不大于20μm，與現有技術相比，極大地減小了濾光層的厚度，有效抑制了因濾光層過厚造成的光損失、光通路迷和應力累積，實現整體制造成本的降低。