基于雙線性濾波圖像層次的大卷積核實(shí)時(shí)近似擬合方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010169973.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN111738902A | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-10-02 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111738902A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-10-02 |
| 分類號(hào) | G06T1/20(2006.01)I | 分類 | 計(jì)算；推算；計(jì)數(shù); |
| 發(fā)明人 | 徐添辰;吳恩華 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 超威半導(dǎo)體（上海）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京君尚知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 超威半導(dǎo)體（上海）有限公司;中國(guó)科學(xué)院軟件研究所 |
| 地址 | 201212上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)環(huán)科路669號(hào)、榮科路118號(hào)1幢2-14層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種基于雙線性濾波圖像層次的大卷積核實(shí)時(shí)近似擬合方法，其步驟包括：1)對(duì)輸入圖像以雙線性濾波進(jìn)行向下采樣，得到圖像金字塔MIP；將MIP從最高層級(jí)逐步向上采樣，得到卷積計(jì)算近似擬合圖像；其中，向上采樣階段過(guò)程中，通過(guò)在像素樣本p(L+1)與像素樣本pdown(L)之間線性插值生成MIP中第L層經(jīng)過(guò)卷積近似濾波的圖像，插值混合參數(shù)取決于目標(biāo)卷積核函數(shù)為：p(L)＝(1?α(L))p(L+1)+α(L)pdown(L)；α(L)表示第L層插值混合參數(shù)，p(L)為向上采樣階段第L層輸出圖像里的像素，p(L+1)為對(duì)第L+1層向上采樣輸出的像素樣本，pdown(L)為對(duì)第L層向下采樣輸出的像素樣本。?? |
