一種具有活動蓋板的濕蝕刻設備及濕蝕刻方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910764932.6 申請日 -
公開（公告）號 CN110429053B 公開（公告）日 2021-03-23
申請公布號 CN110429053B 申請公布日 2021-03-23
分類號 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 顧玲燕;朱龍;任奕宇;李翔;承明忠 申請（專利權）人 江陰江化微電子材料股份有限公司
代理機構 無錫堅恒專利代理事務所（普通合伙） 代理人 杜興
地址 214400江蘇省無錫市江陰市周莊鎮(zhèn)長壽云顧路581號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種具有活動蓋板的濕蝕刻設備，包括蝕刻箱體，蝕刻箱體的內(nèi)腔中由下至上依次設置有工件傳送組件、噴淋組件，噴淋組件與蝕刻箱體頂面之間設置有活動蓋板組件，活動蓋板組件包括兩平行的輸送輥、張緊設置在輸送輥外的輸送帶、位于蝕刻箱體外且與輸送輥連接的輥旋轉驅動件、陣列分布于輸送帶上的若干個通孔和位于輸送帶下方且沿輸送帶帶寬方向設置的扁平狀吹風噴嘴，扁平狀吹風噴嘴的出風方向與輸送帶的輸送方向夾角為95～120°；輸送輥的兩端具有高度差，和/或位于輸送輥頂端和底端的輸送帶層之間設置有扁平風刀，扁平風刀的出風口傾斜向下并朝向輸送帶。通過輸送帶和扁平狀吹風噴嘴，改善滴落和噴射至工件蝕刻面的蝕刻液濃度差導致的蝕刻不均問題。??