一種高質(zhì)量貝塞爾光束透鏡

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202020014364.6 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN211478691U 公開(kāi)(公告)日 2020-09-11
申請(qǐng)公布號(hào) CN211478691U 申請(qǐng)公布日 2020-09-11
分類號(hào) G02B3/00(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 于海波;范小貞 申請(qǐng)(專利權(quán))人 西安卓鐳激光技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京東正專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 北京卓鐳激光技術(shù)有限公司;西安卓鐳激光技術(shù)有限公司;深圳卓鐳激光技術(shù)有限公司
地址 101318北京市順義區(qū)天竺空港工業(yè)區(qū)B區(qū)安慶大街9號(hào)巨鴻大廈B座310
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種高質(zhì)量貝塞爾光束透鏡,包括頂部弧面的圓錐體狀錐透鏡,該錐透鏡表面區(qū)域包括底平面、側(cè)曲面和錐頂曲面,底平面為錐透鏡的底面,并為激光入射錐透鏡上的入射面;側(cè)曲面為錐透鏡的側(cè)面,為激光光線在錐透鏡上的出射面;錐頂曲面位于錐透鏡頂角區(qū)域,錐頂曲面外側(cè)鍍有高反膜層。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是在錐透鏡制造過(guò)程中通過(guò)控制鍍膜來(lái)控制錐透鏡上出射激光能量分布,從而達(dá)到消除錐透鏡頂角影響,減少貝塞爾光能量波動(dòng),同時(shí)又不存在引入光闌時(shí)的衍射影響,加工和使用方便。??