一種雜散光遮蔽結構、包含其的超微距成像模塊

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110023946.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112711089A 公開（公告）日 2021-04-27
申請公布號 CN112711089A 申請公布日 2021-04-27
分類號 G02B6/00;G02B13/24 分類 光學;
發(fā)明人 胡慶磊;黃凱;李寧;李夢婷;丁昶杰 申請（專利權）人 肯維捷斯（武漢）科技有限公司
代理機構 武漢東喻專利代理事務所（普通合伙） 代理人 宋敏
地址 430074 湖北省武漢市洪山區(qū)珞喻路1037號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種雜散光遮蔽結構，其特征在于：雜散光遮蔽結構包括設置在導光結構的鏡頭安裝通孔中的超微距鏡頭的物方端面前方的帶有絲印的前保護視窗，設置在前保護視窗的邊緣側壁與鏡頭安裝通孔之間，呈前后延伸狀的遮光圈等。本發(fā)明采用遮光圈包圍帶絲印的保護視窗，杜絕了大量照明光進入保護視窗后打入鏡頭造成的成像炫光影響，且杜絕了照明光進入保護視窗后其散射光照亮表面雜質(zhì)對成像質(zhì)量造成的影響，進一步地，模塊背部保護視窗采用絲印和背膠對雜散光進行遮蔽，杜絕了超微距模塊與設備鏡頭間雜散光對成像效果的影響，總體成像質(zhì)量提升。