減反射膜、其制備方法及減反射玻璃
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201510083980.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN104691040B | 公開(公告)日 | 2017-07-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN104691040B | 申請(qǐng)公布日 | 2017-07-04 |
分類號(hào) | B32B9/04;B32B17/06;B32B37/02 | 分類 | 層狀產(chǎn)品; |
發(fā)明人 | 余鵬;王春平;鄭建萬;常小喜;汪學(xué)軍;方鳳軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市偉光導(dǎo)電膜有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 宜昌南玻顯示器件有限公司 |
地址 | 443005 湖北省宜昌市大連路38號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種減反射膜、其制備方法及減反射玻璃。該減反射膜包括依次層疊的第一折射率調(diào)整層、第二折射率調(diào)整層、第三折射率調(diào)整層、第四折射率調(diào)整層及第五折射率調(diào)整層;所述第一折射率調(diào)整層的材料為Si3N4;所述第二折射率調(diào)整層的材料為SiO2;所述第三折射率調(diào)整層的材料為SiN;所述第四折射率調(diào)整層的材料為SiO2;所述第五折射率調(diào)整層的材料為SiN。上述減反射膜的硬度較高且絕緣性能佳。 |
