減反射膜及減反射玻璃

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201520112558.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN204894653U 公開（公告）日 2015-12-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN204894653U 申請(qǐng)公布日 2015-12-23
分類號(hào) B32B9/04(2006.01)I;B32B17/06(2006.01)I 分類 層狀產(chǎn)品;
發(fā)明人 余鵬;王春平;鄭建萬;常小喜;汪學(xué)軍;方鳳軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳市偉光導(dǎo)電膜有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 深圳南玻偉光導(dǎo)電膜有限公司;宜昌南玻顯示器件有限公司
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)北區(qū)三號(hào)路南玻電子大廈
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種減反射膜及減反射玻璃。該減反射膜包括依次層疊的四氮化三硅層、第一二氧化硅層、第一一氮化硅層、第二二氧化硅層及第二一氮化硅層；所述四氮化三硅層的厚度為10nm～12nm；所述第一二氧化硅層的厚度為30nm～38nm；所述第一一氮化硅層的厚度為30nm～40nm；所述第二二氧化硅層的厚度為80nm～100nm；所述第二一氮化硅層的厚度為5nm～10nm。上述減反射膜的硬度較高且絕緣性能佳。