具有工藝管壓力控制裝置的半導(dǎo)體熱處理設(shè)備及控制方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610921266.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN106505016B | 公開(kāi)(公告)日 | 2020-02-14 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN106505016B | 申請(qǐng)公布日 | 2020-02-14 |
分類(lèi)號(hào) | H01L21/67;H01L21/324 | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 穆曉航;鐘結(jié)實(shí);王凱;楊帥 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 北方華創(chuàng)科技集團(tuán)股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司;北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司 |
地址 | 100176 北京市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)文昌大道8號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種具有工藝管壓力控制裝置的半導(dǎo)體熱處理設(shè)備及控制方法,通過(guò)將壓力控制器原有的一個(gè)采樣點(diǎn)增加為兩個(gè)采樣點(diǎn),其中一個(gè)采樣點(diǎn)可繼續(xù)采集工藝管排氣端的壓力,另一個(gè)采樣點(diǎn)用于采集承載區(qū)域內(nèi)的壓力,并增加在工藝的不同階段對(duì)第一、第二采樣點(diǎn)進(jìn)行切換的功能,實(shí)現(xiàn)不同工藝步驟對(duì)工藝管內(nèi)壓力的不同控制方法,從而可在滿足原有的工藝壓力控制需求的前提下,實(shí)現(xiàn)在工藝過(guò)程的升降舟階段避免承載區(qū)域內(nèi)氣體進(jìn)入工藝管的控制目標(biāo),減少了氣流沖擊對(duì)工藝產(chǎn)品表面膜厚均勻性的影響。 |
