微納米氣泡清洗晶圓的系統(tǒng)及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610444470.6 申請日 -
公開（公告）號 CN106098592B 公開（公告）日 2019-11-22
申請公布號 CN106098592B 申請公布日 2019-11-22
分類號 H01L21/67（2006.01）; H01L21/02（2006.01） 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 劉效巖 申請（專利權(quán)）人 北方華創(chuàng)科技集團股份有限公司
代理機構(gòu) 上海天辰知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司
地址 100016 北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種微納米氣泡清洗晶圓的系統(tǒng)及方法，包括：液體管道，氣體管道，氣液混合泵，超純水管道，與超純水管道相連接的超純水噴頭，曝氣裝置；超純水經(jīng)超純水管道和超純水噴頭后噴射在晶圓上，在晶圓表面形成超純水膜；清洗液體通過液體管道進入氣液混合泵；用于產(chǎn)生微納米氣泡的氣體通過氣體管道進入氣液混合泵；氣液混合泵將從液體管道出來的清洗液體和從氣體管道出來的氣體充分混合，且使該氣體充分溶解于清洗液體中；曝氣裝置與氣體混合泵相連通，充分混合的所述清洗液體和所述氣體從氣液混合泵出來后，經(jīng)曝氣裝置釋放后形成微納米氣泡噴射在晶圓表面的超純水膜上，從而實現(xiàn)在不損傷晶圓表面圖案的同時提高對晶圓表面顆粒的去除效果。