光束成像裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811598100.3 申請日 -
公開（公告）號 CN109696755A 公開（公告）日 2019-04-30
申請公布號 CN109696755A 申請公布日 2019-04-30
分類號 G02F1/01（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 田立飛; 劉敬偉; 張新群 申請（專利權(quán)）人 中科天芯科技（北京）有限公司
代理機構(gòu) 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 中科天芯科技（北京）有限公司;國科光芯（海寧）科技股份有限公司
地址 100009 北京市西城區(qū)鼓樓西大街62號339室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光束成像裝置，包括：圖形層，對稱依次層疊在圖形層兩側(cè)的過渡層和包層；所述圖形層、所述過渡層和所述包層的折射率依次減小。該光束成像裝置，過渡層和包層對稱依次層疊在圖形層的兩側(cè)，且圖形層的折射率大于與圖形層緊鄰的過渡層的折射率，過渡層的折射率大于包層的折射率，圖形層的折射率最大，過渡層和包層對圖形層中傳輸?shù)墓獠ㄟM行多重限制，能夠有效限制光波在圖形層中傳輸，降低傳輸損耗，提高了光傳輸效率。