一種提升強(qiáng)度的OLED蒸鍍制程用的金屬遮罩

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202121254274.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214830617U 公開（公告）日 2021-11-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN214830617U 申請(qǐng)公布日 2021-11-23
分類號(hào) C23C14/04（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;H01L51/56（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 張容韶;沈洵 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江眾凌科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 浙江永航聯(lián)科專利代理有限公司 代理人 蔡鼎
地址 314400浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)芯中路8號(hào)1幢351室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供了一種提升強(qiáng)度的OLED蒸鍍制程用的金屬遮罩，包括金屬罩體，金屬罩體內(nèi)設(shè)置有效開孔區(qū)域，有效開孔區(qū)域的外周為無(wú)效區(qū)域，有效開孔區(qū)域與無(wú)效區(qū)域之間為過渡開孔區(qū)域，有效開孔區(qū)域中均勻開通若干正常孔，過渡開孔區(qū)域內(nèi)均勻開通若干過渡孔，過渡孔的孔徑小于正?？椎目讖?，若干過渡孔沿有效開孔區(qū)域的周邊布設(shè)。本實(shí)用新型利用過渡開孔區(qū)域中縮小的孔洞，漸進(jìn)式銜接強(qiáng)度變化，以避免強(qiáng)度徒然落差導(dǎo)致易折傷。單排與雙排的漸進(jìn)式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)選用主要在于匹配不同的孔洞開口設(shè)計(jì)的密度。如此階梯式的強(qiáng)度變化，能有效地改善有效開孔區(qū)域與無(wú)效區(qū)域交界處因結(jié)構(gòu)強(qiáng)度的落差所導(dǎo)致的折傷不良問題。