一種單晶硅制絨劑及絨面單晶硅的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111520915.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113913188B 公開（公告）日 2022-02-25
申請公布號 CN113913188B 申請公布日 2022-02-25
分類號 C09K13/06（2006.01）I;C09K13/10（2006.01）I;C30B33/10（2006.01）I 分類 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 李一鳴;吳冰;張震華 申請（專利權(quán)）人 紹興拓邦電子科技有限公司
代理機構(gòu) 紹興鋒行知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 徐鋒
地址 312000 浙江省紹興市越城區(qū)斗門街道三江東路22號8幢車間13-1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種單晶硅制絨劑及絨面單晶硅的制備方法；屬于單晶硅制絨技術(shù)領(lǐng)域；本發(fā)明中單晶硅制絨劑包括堿液和制絨添加劑；絨添加劑包括改性聚乙烯醇；改性聚乙烯醇由甘西鼠尾草酸甲改性聚乙烯醇。本發(fā)明的制備方法包括步驟：S1：將單晶硅片進行預(yù)處理；S2：將預(yù)處理后的單晶硅片置于單晶硅制絨劑中進行制絨；S3：將制絨后的單晶硅片清洗、干燥，得到絨面單晶硅。制得的單晶硅制絨劑具有優(yōu)良穩(wěn)定性以及能夠降低泡沫性能，將其用于單晶硅處理，得到的絨面單晶硅具有絨面均勻、尺寸細小的形貌結(jié)構(gòu)，同時具有較低的反射率。