一種提高PECVD設(shè)備抽真空效率的裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920208490.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN209537624U | 公開（公告）日 | 2019-10-25 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN209537624U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-10-25 |
| 分類號(hào) | C23C16/513（2006.01）I; C23C16/54（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 楊福年; 鄭錫文 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 深圳和力納米科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 深圳市智圈知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 東莞市和域戰(zhàn)士納米科技有限公司 |
| 地址 | 523000 廣東省東莞市塘廈鎮(zhèn)宏業(yè)北路99A16號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種提高PECVD設(shè)備抽真空效率的裝置，包括殼體和設(shè)置在殼體上的蓋板，殼體的外側(cè)設(shè)置有冷凝盤管，殼體內(nèi)的底部設(shè)置有加熱器；所述蓋板還設(shè)置有一根進(jìn)氣管和出氣管，殼體底部連接有一根排液管；所述進(jìn)氣管上連接有進(jìn)氣閥，排液管上設(shè)置有排液閥。本實(shí)用新型中通過設(shè)置設(shè)置殼體和冷凝盤管等，可以將PECVD設(shè)備的真空倉(cāng)體抽出的氣體進(jìn)行降溫，將其中的雜質(zhì)降溫結(jié)晶從而從氣體中分離，進(jìn)入真空泵的氣體不含結(jié)晶物，保證真空泵正常運(yùn)行，從而提高了PECVD設(shè)備抽真空效率。 |
