一種帶覆膜撕膜裝置的真空卷繞鍍膜設(shè)備及其鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210186187.3 申請日 -
公開（公告）號 CN114635119A 公開（公告）日 2022-06-17
申請公布號 CN114635119A 申請公布日 2022-06-17
分類號 C23C14/56（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱剛勁;朱剛毅 申請（專利權(quán)）人 廣東騰勝科技創(chuàng)新有限公司
代理機構(gòu) 東莞高瑞專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 526000廣東省肇慶市端州區(qū)端州一路南賓日大樓側(cè)第一卡廠房之二
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種帶覆膜撕膜裝置的真空卷繞鍍膜設(shè)備，包括真空容器、設(shè)于真空容器內(nèi)的放卷系統(tǒng)、鍍膜輥、覆膜卷、撕膜卷及收卷系統(tǒng)，放卷系統(tǒng)上纏繞基材與覆膜卷上保護膜一起貼合，經(jīng)過鍍膜輥后，在收卷時基材與保護膜分離開，基材收卷在收卷系統(tǒng)上，保護膜收卷在撕膜卷上，在鍍膜輥的外側(cè)設(shè)有磁控靶。還公開一種鍍膜方法，包括：將放卷系統(tǒng)上的基材繞過鍍膜輥外層，并收卷在收卷系統(tǒng)上；將覆膜卷上的保護膜貼合在基材內(nèi)表面，保護膜在鍍膜輥內(nèi)層，基材在外層，一起纏繞通過鍍膜輥上，進入收卷時纏繞在撕膜卷上；基材通過鍍膜輥時，磁控靶對鍍膜輥上的基材進行磁控濺射鍍膜。本發(fā)明可增加基材的拉張力，避免產(chǎn)生褶皺、走偏和拉斷，提升鍍膜效果。