一種帶撕膜覆膜裝置的真空卷繞鍍膜設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202220456607.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN216891200U | 公開（公告）日 | 2022-07-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216891200U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-05 |
| 分類號(hào) | C23C14/56（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 朱剛勁;朱剛毅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東騰勝科技創(chuàng)新有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 東莞高瑞專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 526000廣東省肇慶市端州區(qū)端州一路南賓日大樓側(cè)第一卡廠房之二 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種帶撕膜覆膜裝置的真空卷繞鍍膜設(shè)備，包括真空容器和放卷系統(tǒng)、鍍膜輥、撕膜卷及收卷系統(tǒng)，基材經(jīng)過鍍膜輥后復(fù)卷到收卷系統(tǒng)，鍍膜輥的外圓周側(cè)部設(shè)磁控靶，保護(hù)膜從放卷系統(tǒng)上輸出后與基材分離，在鍍膜輥的輸出端設(shè)有覆膜卷，保護(hù)膜覆在基材表面復(fù)卷至收卷系統(tǒng)。本實(shí)用新型可對(duì)帶保護(hù)膜的薄膜基材進(jìn)行撕膜鍍膜，實(shí)現(xiàn)單面鍍膜和雙面鍍膜的功能，且保持在真空無(wú)塵環(huán)境下進(jìn)行。 |
