一種新型真空容器結(jié)構(gòu)的卷對(duì)卷真空鍍膜設(shè)備及鍍膜方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202210185652.1 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN114525491A 公開(公告)日 2022-05-24
申請(qǐng)公布號(hào) CN114525491A 申請(qǐng)公布日 2022-05-24
分類號(hào) C23C14/56(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱剛毅;朱剛勁 申請(qǐng)(專利權(quán))人 廣東騰勝科技創(chuàng)新有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東莞高瑞專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 -
地址 526000廣東省肇慶市端州區(qū)端州一路南賓日大樓側(cè)第一卡廠房之二
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種新型真空容器結(jié)構(gòu)的卷對(duì)卷真空鍍膜設(shè)備,包括真空容器,真空容器內(nèi)設(shè)有收放卷室和鍍膜室,收放卷室設(shè)隔膜閥,收放卷室內(nèi)各設(shè)放卷系統(tǒng)和收卷系統(tǒng),放卷系統(tǒng)輸出基材進(jìn)入鍍膜室中,基材鍍膜后復(fù)卷至收卷系統(tǒng)上。一種鍍膜方法,包括:放卷系統(tǒng)輸出基材纏繞鍍膜輥一、磁控靶一對(duì)鍍膜輥一上的基材的第一面進(jìn)行鍍膜;基材通過走膜通道纏繞在鍍膜輥二、磁控靶二對(duì)鍍膜輥二上的基材的第二面進(jìn)行鍍膜,基材鍍膜后收卷在收卷系統(tǒng)上;在放卷和收卷更換卷材時(shí),隔膜閥一和隔膜閥二關(guān)閉,保持鍍膜室一和鍍膜室二的真空度。本發(fā)明在收放卷材時(shí),關(guān)閉隔膜閥,保持鍍膜室的真空度不變,鍍膜室和收放卷室相互獨(dú)立,加快抽真空時(shí)間,提高生產(chǎn)效率。