一種帶撕膜覆膜裝置的真空卷繞鍍膜設(shè)備及鍍膜方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210185654.0 申請日 -
公開（公告）號 CN114525492A 公開（公告）日 2022-05-24
申請公布號 CN114525492A 申請公布日 2022-05-24
分類號 C23C14/56（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/58（2006.01）I;C23C14/02（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 朱剛勁;朱剛毅 申請（專利權(quán)）人 廣東騰勝科技創(chuàng)新有限公司
代理機(jī)構(gòu) 東莞高瑞專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 526000廣東省肇慶市端州區(qū)端州一路南賓日大樓側(cè)第一卡廠房之二
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種帶撕膜覆膜裝置的真空卷繞鍍膜設(shè)備，包括真空容器和放卷系統(tǒng)、鍍膜輥及收卷系統(tǒng)，基材經(jīng)過鍍膜輥后復(fù)卷到收卷系統(tǒng)，鍍膜輥的外圓周側(cè)部設(shè)磁控靶，保護(hù)膜從放卷系統(tǒng)上輸出后與基材分離，在鍍膜輥的輸出端設(shè)有覆膜卷，保護(hù)膜覆在基材表面復(fù)卷至收卷系統(tǒng)。一種鍍膜方法，包括：通過真空抽氣系統(tǒng)和真空測量系統(tǒng)使真空容器內(nèi)部滿足真空條件；放卷系統(tǒng)傳送帶保護(hù)膜的基材纏繞在鍍膜輥前，先將保護(hù)膜撕除卷繞在撕膜卷上；鍍膜輥外圓周處設(shè)磁控靶對鍍膜輥表面的基材進(jìn)行鍍膜；基材表面貼覆保護(hù)膜后復(fù)卷在收卷系統(tǒng)上。本發(fā)明可對帶保護(hù)膜的薄膜基材進(jìn)行撕膜鍍膜，鍍膜完后再貼覆保護(hù)膜進(jìn)行收卷，實現(xiàn)單面鍍膜和雙面鍍膜的功能。