一種電子束蒸發(fā)雙面鍍膜的卷對(duì)卷設(shè)備
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202220418232.9 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN216891172U | 公開（公告）日 | 2022-07-05 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216891172U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-05 |
| 分類號(hào) | C23C14/30（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 朱剛毅;朱剛勁 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 廣東騰勝科技創(chuàng)新有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 東莞高瑞專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 526000廣東省肇慶市端州區(qū)端州一路南賓日大樓側(cè)第一卡廠房之二 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種電子束蒸發(fā)雙面鍍膜的卷對(duì)卷設(shè)備，包括真空容器，真空容器內(nèi)部形成有放卷室、蒸發(fā)鍍膜室一、蒸發(fā)鍍膜室二和收卷室，放卷室輸出薄膜基材經(jīng)過蒸發(fā)鍍膜室一和蒸發(fā)鍍膜室二后進(jìn)入收卷室中復(fù)卷，蒸發(fā)鍍膜室一設(shè)有鍍膜輥一和電子束蒸發(fā)鍍膜器一，蒸發(fā)鍍膜室二設(shè)有鍍膜輥二和電子束蒸發(fā)鍍膜器二，薄膜基材繞過鍍膜輥一和鍍膜輥二使其正反兩面分別與電子束蒸發(fā)鍍膜器一和電子束蒸發(fā)鍍膜器二對(duì)應(yīng)。本實(shí)用新型提供一種電子束蒸發(fā)雙面鍍膜的卷對(duì)卷設(shè)備，采用電子束加熱膜材，加熱功率大，熱能量集中且能量大，能蒸發(fā)各種難熔金屬及非金屬材料，采用雙鍍膜輥雙電子束加熱蒸發(fā)鍍膜實(shí)現(xiàn)薄膜基材的連續(xù)雙面鍍膜。 |
