一種單晶硅片垂直清洗裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201921861677.9 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN210995605U 公開(公告)日 2020-07-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN210995605U 申請(qǐng)公布日 2020-07-14
分類號(hào) B08B3/12(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 朱汪龍;朱玲 申請(qǐng)(專利權(quán))人 無錫樂東微電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 曹佩佩
地址 214028江蘇省無錫市新吳區(qū)景賢路52號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種單晶硅片垂直清洗裝置,屬于硅片超聲波清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,本實(shí)用新型包括清洗帶、傳送帶、藥水池和電機(jī),清洗帶底部有數(shù)個(gè)分布均勻的凹槽,凹槽底部設(shè)有多個(gè)超聲波振子,清洗帶的外圍設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)塊和轉(zhuǎn)動(dòng)桿,通過轉(zhuǎn)動(dòng)塊和轉(zhuǎn)動(dòng)桿旋轉(zhuǎn)清洗帶,使凹槽中的單晶硅片和藥水落入傳送帶中,藥水通過傳送帶上的網(wǎng)眼落入藥水池中,而傳送帶將單晶硅片傳送至出料口。本實(shí)用新型提供的單晶硅片垂直清洗裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,維修成本低,解決了現(xiàn)有的清洗裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜,維修成本高,時(shí)間長(zhǎng),影響工作效率的問題。??