一種硅晶片清洗裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201921843890.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN210995512U | 公開(公告)日 | 2020-07-14 |
申請公布號 | CN210995512U | 申請公布日 | 2020-07-14 |
分類號 | B08B3/02(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 朱汪龍;朱玲 | 申請(專利權(quán))人 | 無錫樂東微電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 徐爾東 |
地址 | 214028江蘇省無錫市新吳區(qū)景賢路52號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型一種硅晶片清洗裝置,包括清洗腔室以及底座,還包括清洗機(jī)構(gòu)、轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、排水機(jī)構(gòu),其中:清洗機(jī)構(gòu)包括進(jìn)水裝置以及若干噴水裝置,進(jìn)水裝置通過軟管與若干噴水裝置連接,若干噴水裝置等距固定安裝在清洗腔室內(nèi)腔頂部;轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動(dòng)軸、軸承以及若干卡框,若干卡框固定設(shè)在轉(zhuǎn)動(dòng)軸上,軸承設(shè)于轉(zhuǎn)動(dòng)軸兩端且位于清洗腔室側(cè)壁腔內(nèi);排水機(jī)構(gòu)包括若干出水口、排水口、斜板,若干出水口設(shè)置在清洗腔室底部,斜板斜設(shè)在底座內(nèi)及若干出水口下方,斜板尾端與底座側(cè)壁連接處開設(shè)有排水口;本實(shí)用新型可以對硅晶片進(jìn)行全方位清洗,且便于安裝拆卸,整體結(jié)構(gòu)簡單,成本低。?? |
