一種單晶硅片的清洗烘干裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201911051124.1 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110841973A 公開（公告）日 2020-02-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN110841973A 申請(qǐng)公布日 2020-02-28
分類號(hào) B08B3/12;B08B3/10;B08B3/08;B08B13/00;F26B15/12;F26B21/00 分類 清潔;
發(fā)明人 朱汪龍;朱玲 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 無錫樂東微電子有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 曹佩佩
地址 214028 江蘇省無錫市新吳區(qū)景賢街52號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種單晶硅片的清洗烘干裝置，包括頂部、紅外感應(yīng)裝置、化學(xué)清洗池、物理清潔池和烘干室，頂部的下方從左至右依次是取片室、化學(xué)清洗池、物理清潔池、烘干室和封裝室，頂部包括頂板、傳送裝置和伸縮裝置，通過伸縮裝置和紅外感應(yīng)裝置，完成硅片在清洗烘干過程。本發(fā)明的單晶硅片的清洗烘干裝置，裝置簡(jiǎn)單，操作安全穩(wěn)定，一次性完成單晶硅片的清洗烘干過程，提高了清洗和烘干效率，并且單晶硅片經(jīng)過兩種清洗方式后，達(dá)到了更好的清洗效果。