一種用于真空鍍膜的霧化加熱裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122497570.4 申請日 -
公開（公告）號 CN216427388U 公開（公告）日 2022-05-03
申請公布號 CN216427388U 申請公布日 2022-05-03
分類號 C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;B05D1/00（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李小彭;姜翠寧;高文波 申請（專利權(quán)）人 浙江生波智能裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中山卓融知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 彭國軍;趙釗
地址 314499浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)芯中路6號4幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型提供一種用于真空鍍膜的霧化加熱裝置，包括用于對液態(tài)有機(jī)鍍膜材料進(jìn)行霧化的霧化裝置以及用于對霧化后的有機(jī)鍍膜材料進(jìn)行汽化的加熱裝置，加熱裝置包括與霧化裝置相連通的加熱箱體和設(shè)于加熱箱體上且用于對加熱箱體進(jìn)行加熱的加熱組件，加熱箱體的一側(cè)設(shè)有噴口。本發(fā)明采用上述結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)了對液態(tài)有機(jī)鍍膜材料的霧化及汽化過程，汽化后的有機(jī)鍍膜材料可均勻地附著并涂覆于基材的表面上，成膜的過程在真空環(huán)境下完成，其適用范圍廣，可以獲得較薄的鍍膜層，也可以滿足厚膜的需要，其均勻性容易控制，效率高，并且可以獲得均勻性高和更高膜層性能的薄膜。