一種電弧離子鍍裝置及沉積硬質(zhì)涂層工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811250036.X 申請日 -
公開（公告）號 CN109136865A 公開（公告）日 2019-01-04
申請公布號 CN109136865A 申請公布日 2019-01-04
分類號 C23C14/32（2006.01）I; C23C14/48（2006.01）I; C23C14/02（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉偉; 馬槽偉 申請（專利權）人 大連維鈦克科技股份有限公司
代理機構 - 代理人 -
地址 116600 遼寧省大連市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)鐵山西路3-1號-A、B
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種電弧離子鍍裝置及沉積硬質(zhì)涂層工藝，該裝置由真空室、真空抽氣系統(tǒng)、四組弧源和置于其前的轉動擋板組成，其中，轉動擋板包括清洗擋板及沉積柵網(wǎng)兩種，懸掛于真空室上部的轉動盤上，有效防止大顆粒污染涂層結構和降低性能，同時還能有效提高對基材加熱、清洗和刻蝕以及離子注入效果，顯著提高后續(xù)制備的硬質(zhì)防護涂層與基材的結合力，可用于刀具、模具、機械零部件等表面制備硬質(zhì)防護薄膜和涂層領域。