一種提高硬質(zhì)涂層與基材結(jié)合力的裝置及工藝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811250029.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN109055901A 公開(kāi)（公告）日 2018-12-21
申請(qǐng)公布號(hào) CN109055901A 申請(qǐng)公布日 2018-12-21
分類(lèi)號(hào) C23C14/32;C23C14/02 分類(lèi) 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉偉;馬槽偉 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 大連維鈦克科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 116600 遼寧省大連市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)鐵山西路3-1號(hào)-A、B
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的提高物理氣相沉積硬質(zhì)涂層與基材結(jié)合力的裝置和工藝，在原有物理氣相沉積裝置基礎(chǔ)上，該裝置由嵌入真空室腔壁的柱狀弧源或平面弧源和置于其前面距離、位置可調(diào)的擋板，以及相應(yīng)的獨(dú)立供電電源組成。通過(guò)調(diào)整弧源、擋板、懸掛基材轉(zhuǎn)架及真空室壁之間的電位，實(shí)現(xiàn)對(duì)弧源發(fā)射的等離子體及其所離化工作氣體離子的分離、運(yùn)動(dòng)的有效控制，實(shí)現(xiàn)電子轟擊加熱、氣體離子或弧源金屬離子刻蝕清洗及金屬離子注入，之后接續(xù)硬質(zhì)涂層的物理氣相沉積，本裝置及工藝能夠使基材表面清洗更加徹底，調(diào)控基材表面粗糙度，活化基材表面，有效提高了刀具、模具、機(jī)械關(guān)鍵零部件和鎖具等產(chǎn)品表面硬質(zhì)防護(hù)涂層與基體的結(jié)合力。