半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202180000644.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112956018A | 公開(公告)日 | 2021-06-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112956018A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-11 |
分類號(hào) | H01L23/48;H01L21/768 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 沈競宇;趙起越;周春華;楊超;高吳昊;石瑜;魏寶利 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 英諾賽科(蘇州)半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳宜保知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 王琴;曹玉存 |
地址 | 215211 江蘇省蘇州市吳江區(qū)汾湖高新開發(fā)區(qū)新黎路98號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本揭露提供了半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)及其制造方法。半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)包括襯底、第一氮化物半導(dǎo)體層、第二氮化物半導(dǎo)體層、柵極電極、第一電極、第一通孔和第二通孔。襯底具有第一表面和第二表面。第一氮化物半導(dǎo)體層設(shè)置在襯底的第一表面上。第二氮化物半導(dǎo)體層設(shè)置在第一氮化物半導(dǎo)體層上,且具有的帶隙超過第一氮化物半導(dǎo)體層的帶隙。柵極電極和第一電極設(shè)置在第二氮化物半導(dǎo)體層上。第一通孔從第二表面延伸并電連接到第一電極。第二通孔從第二表面延伸。第一通孔的深度不同于第二通孔的深度。 |
