一種微米級尺寸圖形化藍(lán)寶石襯底的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201610207145.8 申請日 -
公開（公告）號 CN105702825B 公開（公告）日 2018-01-30
申請公布號 CN105702825B 申請公布日 2018-01-30
分類號 H01L33/20;H01L33/00;B23K26/36;B23K26/364 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 云峰;郭茂峰;蘇喜林 申請（專利權(quán)）人 陜西新光源科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 代理人 陜西新光源科技有限責(zé)任公司
地址 710077 陜西省西安市雁塔區(qū)錦業(yè)路125號西安半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)園103號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種微米級尺寸圖形化藍(lán)寶石襯底的制備方法，包括以下步驟：1)在藍(lán)寶石襯底上利用激光加工方式形成激光燒蝕改質(zhì)區(qū)域，其余為未處理藍(lán)寶石區(qū)域；2)在步驟1)中未處理藍(lán)寶石區(qū)域利用激光加工方式形成具有預(yù)期輪廓的改質(zhì)層；3)利用高溫濕法腐蝕清洗去除激光燒蝕改質(zhì)區(qū)域和具有預(yù)期輪廓的改質(zhì)層，最終獲得預(yù)期設(shè)計(jì)圖案的圖形化藍(lán)寶石柱體。本發(fā)明利用定位精度達(dá)到1微米級別的激光加工設(shè)備，通過燒蝕或脈沖輻照形成改質(zhì)區(qū)域，獲得藍(lán)寶石材料的非晶/多晶?單晶界面，利用該界面存在濕法腐蝕速率差異的原理，加工出預(yù)期設(shè)計(jì)的圖形化藍(lán)寶石襯底，該方法適合于規(guī)?；焖偕a(chǎn)。