一種微米級(jí)尺寸圖形化藍(lán)寶石襯底的制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610207145.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105702825A | 公開(公告)日 | 2016-06-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105702825A | 申請(qǐng)公布日 | 2016-06-22 |
分類號(hào) | H01L33/20(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;B23K26/36(2014.01)I;B23K26/364(2014.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 云峰;郭茂峰;蘇喜林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 陜西新光源科技有限責(zé)任公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | 陜西新光源科技有限責(zé)任公司 |
地址 | 710077 陜西省西安市雁塔區(qū)錦業(yè)路125號(hào)西安半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)園103號(hào)廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種微米級(jí)尺寸圖形化藍(lán)寶石襯底的制備方法,包括以下步驟:1)在藍(lán)寶石襯底上利用激光加工方式形成激光燒蝕改質(zhì)區(qū)域,其余為未處理藍(lán)寶石區(qū)域;2)在步驟1)中未處理藍(lán)寶石區(qū)域利用激光加工方式形成具有預(yù)期輪廓的改質(zhì)層;3)利用高溫濕法腐蝕清洗去除激光燒蝕改質(zhì)區(qū)域和具有預(yù)期輪廓的改質(zhì)層,最終獲得預(yù)期設(shè)計(jì)圖案的圖形化藍(lán)寶石柱體。本發(fā)明利用定位精度達(dá)到1微米級(jí)別的激光加工設(shè)備,通過燒蝕或脈沖輻照形成改質(zhì)區(qū)域,獲得藍(lán)寶石材料的非晶/多晶-單晶界面,利用該界面存在濕法腐蝕速率差異的原理,加工出預(yù)期設(shè)計(jì)的圖形化藍(lán)寶石襯底,該方法適合于規(guī)模化快速生產(chǎn)。 |
