一種紅外窗口增透保護結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202022193358.4 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN212293729U | 公開（公告）日 | 2021-01-05 |
| 申請公布號 | CN212293729U | 申請公布日 | 2021-01-05 |
| 分類號 | C23C14/06(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 張美奇;趙培 | 申請（專利權(quán)）人 | 昆明奧夫特光電技術(shù)有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 無錫派爾特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 楊立秋 |
| 地址 | 650000云南省昆明市市轄區(qū)滇中新區(qū)大板橋街道云水路1號A2棟416-44號辦公室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實用新型涉及光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種紅外窗口增透保護結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)包括增透層、基底和保護層，基底的一側(cè)附著有增透層，另一側(cè)附著有保護層；增透層自基底起依次包括第一鍺層、第一硫化鋅層、第二鍺層和第二硫化鋅層；保護層自基底起依次包括鍺砷硒層和類金剛石層，本實用新型提供了一種紅外窗口增透保護結(jié)構(gòu)，鍺砷硒層作為類金剛石層和基底層之間唯一的中間層，一方面增加了窗口的光學(xué)透過性，另一方面減小了膜層間的應(yīng)力，解決了無法在硫族材料上沉積類金剛石膜的問題。?? |
