運動電極裝置、可運動支架裝置和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910893117.X 申請日 -
公開（公告）號 CN112538618B 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN112538618B 申請公布日 2022-02-22
分類號 C23C16/50（2006.01）I;C23C16/458（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宗堅 申請（專利權(quán)）人 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 駱蘇華
地址 214000江蘇省無錫市惠山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)玉祁配套區(qū)東環(huán)路182號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一運動電極裝置、可運動支架裝置和應(yīng)用，其中所述可運動支架裝置包括可運動支架、載臺和電極，其中所述可運動支架架能夠帶動所述載臺繞第一軸線轉(zhuǎn)動，并且所述載臺被可自轉(zhuǎn)地安裝于所述可運動支架，其中所述電極被設(shè)置于所述可運動支架，以和所述可運動支架一同轉(zhuǎn)動，并相于所述可運動支架放電，以有利于鍍膜的均勻性。