鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910893933.0 申請日 -
公開（公告）號 CN112538617B 公開（公告）日 2022-02-22
申請公布號 CN112538617B 申請公布日 2022-02-22
分類號 C23C16/458（2006.01）I;C23C16/513（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宗堅 申請（專利權(quán)）人 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 駱蘇華
地址 214000江蘇省無錫市惠山經(jīng)濟開發(fā)區(qū)玉祁配套區(qū)東環(huán)路182號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一鍍膜設(shè)備，其中所述鍍膜設(shè)備包括一反應腔體和一可運動支架裝置，其中所述反應腔體具有一反應腔，其中所述可運動支架裝置被容納于所述反應腔，其中所述可運動支架裝置包括至少一電極和一可運動支架，其中所述可運動支架相對于所述反應腔體可運動，其中至少一個所述電極被可跟隨所述可運動支架一同運動地設(shè)置于所述可運動支架，其中至少一待鍍膜工件適于被保持于所述可運動支架隨著所述可運動支架運動。