鍍膜設(shè)備和應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202080001813.6 申請日 -
公開（公告）號 CN114072539A 公開（公告）日 2022-02-18
申請公布號 CN114072539A 申請公布日 2022-02-18
分類號 C23C16/455（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 宗堅 申請（專利權(quán)）人 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
代理機構(gòu) 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 駱蘇華
地址 214000江蘇省無錫市惠山經(jīng)濟開發(fā)區(qū)玉祁配套區(qū)東環(huán)路182號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一鍍膜設(shè)備和應(yīng)用，以供在待鍍膜工件的表面鍍膜，所述鍍膜設(shè)備包括一電極裝置和一反應(yīng)腔體，其中所述反應(yīng)腔體具有一反應(yīng)腔、連通所述反應(yīng)腔的至少一進料口和至少一抽氣口，其中所述進料口位于所述反應(yīng)腔體的靠近中間位置，其中所述抽氣口位于所述反應(yīng)腔體的側(cè)面位置，其中所述電極裝置在所述反應(yīng)腔內(nèi)放電，以供在該待鍍膜工件的表面鍍膜。