鍍膜設(shè)備和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202080001813.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN114072539A | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-02-18 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN114072539A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-02-18 |
| 分類(lèi)號(hào) | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/50（2006.01）I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 宗堅(jiān) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 駱蘇華 |
| 地址 | 214000江蘇省無(wú)錫市惠山經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)玉祁配套區(qū)東環(huán)路182號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供了一鍍膜設(shè)備和應(yīng)用，以供在待鍍膜工件的表面鍍膜，所述鍍膜設(shè)備包括一電極裝置和一反應(yīng)腔體，其中所述反應(yīng)腔體具有一反應(yīng)腔、連通所述反應(yīng)腔的至少一進(jìn)料口和至少一抽氣口，其中所述進(jìn)料口位于所述反應(yīng)腔體的靠近中間位置，其中所述抽氣口位于所述反應(yīng)腔體的側(cè)面位置，其中所述電極裝置在所述反應(yīng)腔內(nèi)放電，以供在該待鍍膜工件的表面鍍膜。 |
