原料氣化裝置和鍍膜設(shè)備及其氣化方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010729972.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111996501B | 公開（公告）日 | 2022-03-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111996501B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-04 |
| 分類號(hào) | C23C14/32（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 宗堅(jiān) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 駱蘇華 |
| 地址 | 214000 江蘇省無錫市惠山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)玉祁配套區(qū)東環(huán)路182號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一原料氣化裝置和鍍膜設(shè)備及其氣化方法，其中所述原料氣化裝置，其包括：一第一級(jí)氣化部件，所述第一級(jí)氣化部件用于將送入的原料進(jìn)行初級(jí)氣化；一第二級(jí)氣化部件，所述第二級(jí)氣化部件用于將第一級(jí)氣化部件初級(jí)氣化后的原料進(jìn)一步氣化；和一進(jìn)料控制部，其中所述進(jìn)料控制部用于送入需要被氣化的原料，所述進(jìn)料控制部控制地連通所述第一級(jí)氣化部件，由此提高原料的氣化效率。 |
