一種超高真空腔體的研磨工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910211324.2 申請日 -
公開（公告）號 CN109881243B 公開（公告）日 2020-01-21
申請公布號 CN109881243B 申請公布日 2020-01-21
分類號 C25F3/16;C23G1/14 分類 電解或電泳工藝；其所用設(shè)備〔4〕;
發(fā)明人 瞿建強(qiáng);黃仕強(qiáng) 申請（專利權(quán)）人 江陰市光科光電精密設(shè)備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 江陰義海知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 江陰市光科光電精密設(shè)備有限公司
地址 214400 江蘇省無錫市江陰市高新園區(qū)長山路
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種超高真空腔體的研磨工藝，包括預(yù)清洗、一次電解拋光、二次電解拋光、二次高壓清洗、中和處理和三次高壓清洗，為了進(jìn)一步提高超高真空腔體的表面美觀效果，還包括后續(xù)的對腔體密封面的精細(xì)研磨工序、四次高壓清洗和干燥，經(jīng)處理后的超高真空腔體結(jié)構(gòu)面粗糙度能達(dá)到Ra 0.8～1.5的范圍，有效減少表面波紋，且紋理朝向和線條粗細(xì)均一致，雜質(zhì)釋放氣體量少，提高了超高真空腔體構(gòu)件的表面質(zhì)量，有效保證了超高真空腔體構(gòu)件結(jié)構(gòu)面的密封性。