蝕刻液組合物

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910275642.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110042393B 公開（公告）日 2020-11-24
申請公布號 CN110042393B 申請公布日 2020-11-24
分類號 C23F1/18;C23F1/26 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 孟小歡;苗新民 申請（專利權(quán)）人 紹興明煌科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 紹興市寅越專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 滄州碩金生物科技有限公司;紹興明煌科技有限公司
地址 312030 浙江省紹興市柯橋區(qū)安昌街道大山西村1幢
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物，屬于蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，包括，以蝕刻液組合物的總重量計(jì)，6?16wt％過硫酸鹽；2?6wt％硝酸；0.3?3wt％磺酸化合物；0.3?0.5wt％硝酸羥胺；以及，余量的水。本發(fā)明蝕刻液組合物能夠消除現(xiàn)有蝕刻液中發(fā)生的側(cè)面蝕刻現(xiàn)象、經(jīng)時(shí)變化現(xiàn)象、蝕刻時(shí)的產(chǎn)生殘?jiān)F(xiàn)象以及蝕刻廢液難以再利用和回收等缺點(diǎn)，蝕刻的均勻性和穩(wěn)定性較佳，易于形成精細(xì)圖案的線路，用于各種顯示裝置用陣列基板、存儲半導(dǎo)體顯示板等的制造。此外，上述蝕刻液組合物的穩(wěn)定性高、銅離子的回收容易，易于對蝕刻廢液進(jìn)行再利用和回收。