一種光學(xué)膜裁切質(zhì)量的評估方法及系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110333908.4 申請日 -
公開（公告）號 CN113076636B 公開（公告）日 2022-03-11
申請公布號 CN113076636B 申請公布日 2022-03-11
分類號 G06F30/20（2020.01）I;G01D21/02（2006.01）I 分類 計算；推算；計數(shù);
發(fā)明人 張軍;石光權(quán);劉勇 申請（專利權(quán)）人 南京貝迪新材料科技股份有限公司
代理機構(gòu) 南京九致知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 嚴巧巧
地址 211000江蘇省南京市江寧區(qū)科學(xué)園芝蘭路18號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種光學(xué)膜裁切質(zhì)量的評估方法及系統(tǒng)，其中，所述方法包括：獲得第一光學(xué)膜的類型信息；獲得所述第一光學(xué)膜的硬度信息；通過干涉法獲得所述第一光學(xué)膜的第一平整度信息；將所述第一光學(xué)膜的類型信息、所述硬度信息和所述第一平整度信息輸入評估參數(shù)估計模型，獲得第一評估參數(shù)；獲得所述第一光學(xué)膜的實際裁切位置；根據(jù)所述第一光學(xué)膜的實際裁切位置，獲得第二評估參數(shù)；將所述第一評估參數(shù)和所述第二評估參數(shù)輸入光學(xué)膜裁切質(zhì)量評估模型，獲得第一評估結(jié)果。解決了現(xiàn)有的不能對光學(xué)膜裁切質(zhì)量進行全面合理評估的技術(shù)問題。