均勻布?xì)獾牟細(xì)庋b置及真空磁控濺射鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020917222.0 申請日 -
公開（公告）號 CN213037834U 公開（公告）日 2021-04-23
申請公布號 CN213037834U 申請公布日 2021-04-23
分類號 C23C14/35;C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李建華;徐從高;李自全;高文波 申請（專利權(quán)）人 洛陽生波爾真空裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 石仁;何金芳
地址 471000 河南省洛陽市新安縣洛新產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)廣深路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了均勻布?xì)獾牟細(xì)庋b置及真空磁控濺射鍍膜設(shè)備，包括磁控濺射靶和與所述磁控濺射靶配備布置的均勻布?xì)獾牟細(xì)庋b置，所述均勻布?xì)獾牟細(xì)庋b置包括中空的裝置本體，所述裝置本體上設(shè)有用于排出工藝氣體的出氣孔，所述出氣孔上可分離地連接有用于封堵所述出氣孔的調(diào)節(jié)件，所述調(diào)節(jié)件上設(shè)有與所述裝置本體內(nèi)部連通的調(diào)節(jié)通孔。通過設(shè)置在所述出氣孔內(nèi)的所述調(diào)節(jié)件和設(shè)置在所述調(diào)節(jié)件上的調(diào)節(jié)通孔，減緩工藝氣體的排放速度，使工藝氣體分子在所述裝置本體內(nèi)發(fā)生多次碰撞后比較均勻地分布在所述裝置本體內(nèi)再通過所述調(diào)節(jié)通孔排放到真空鍍膜區(qū)，使排放到真空鍍膜區(qū)的工藝氣體分子也呈均勻分布，進(jìn)而提高鍍膜的質(zhì)量。