一種用于真空鍍膜的霧化裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111203394.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113828466A | 公開(公告)日 | 2021-12-24 |
申請公布號 | CN113828466A | 申請公布日 | 2021-12-24 |
分類號 | B05B17/06(2006.01)I;B05B16/20(2018.01)I;C23C16/50(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I | 分類 | 一般噴射或霧化;對表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕; |
發(fā)明人 | 李小彭;姜翠寧 | 申請(專利權(quán))人 | 洛陽生波爾真空裝備有限公司 |
代理機構(gòu) | 中山卓融知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 彭國軍;趙釗 |
地址 | 471822河南省洛陽市新安縣洛新產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)廣深路3號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種用于真空鍍膜的霧化裝置,包括殼體和設(shè)于殼體內(nèi)的霧化器本體,霧化器本體的兩端分別設(shè)有通液接口和霧化噴頭,通液接口用于通入供霧化器本體進行霧化的液態(tài)有機鍍膜材料,霧化器本體上設(shè)有用于增壓的增壓接頭。本發(fā)明先對液態(tài)有機鍍膜材料的霧化,而后可以再對霧化后液態(tài)有機鍍膜材料進行汽化,汽化后的有機鍍膜材料可均勻地附著并涂覆于基材的表面上,成膜的過程在真空環(huán)境下完成,其適用范圍廣,可以獲得較薄的鍍膜層,也可以滿足厚膜的需要,其均勻性容易控制,效率高,并且可以獲得均勻性高和更高膜層性能的薄膜。 |
