單體氣化裝置及其應(yīng)用的鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202020997062.5 申請日 -
公開（公告）號 CN213142177U 公開（公告）日 2021-05-07
申請公布號 CN213142177U 申請公布日 2021-05-07
分類號 C23C16/52(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I;G01F23/00(2006.01)I;G01K13/02(2021.01)I 分類 -
發(fā)明人 高文波;李小彭 申請（專利權(quán)）人 洛陽生波爾真空裝備有限公司
代理機構(gòu) 中山市捷凱專利商標代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 石仁
地址 471000河南省洛陽市新安縣洛新產(chǎn)業(yè)集聚區(qū)廣深路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及真空鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種單體氣化裝置及其應(yīng)用的鍍膜設(shè)備，單體氣化裝置包括箱體，箱體內(nèi)設(shè)有用于封裝液態(tài)單體氣的單體容器以及用于對單體容器恒溫加熱的恒溫加熱系統(tǒng)，單體容器上還設(shè)有出氣管，通過恒溫加熱系統(tǒng)對單體容器加熱使液態(tài)單體氣氣化并使氣化后的單體氣形成一定的帶壓氣源從出氣管流出，且單體容器上還設(shè)有用于檢測單體容器內(nèi)液態(tài)單體氣的余量的單體液位測量裝置。本申請的單體液位測量裝置可實時測量液態(tài)單體氣液位，以便監(jiān)測單體氣余量，通過恒溫加熱系統(tǒng)恒溫加熱單體容器，可使單體容器內(nèi)溫度均勻升高，使得液態(tài)單體氣氣化，從而使單體容器內(nèi)氣態(tài)單體形成一定單體壓強，保證其真空鍍膜時的連續(xù)性和穩(wěn)定性。??