一種高通量制備貴金屬氧化物涂層電極方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111205125.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114016024A 公開（公告）日 2022-02-08
申請公布號 CN114016024A 申請公布日 2022-02-08
分類號 C23C26/00（2006.01）I;C25B11/052（2021.01）I;C25B11/063（2021.01）I;C25B11/091（2021.01）I;C25B1/34（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳松;徐明玥;王塞北;謝明;陳永泰;楊有才;胡潔瓊;方繼恒;畢亞男;李愛坤;張吉明;馬洪偉;段云昭;張巧 申請（專利權(quán)）人 昆明貴金屬研究所
代理機(jī)構(gòu) 昆明今威專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 賽曉剛
地址 650000云南省昆明市高新區(qū)科技路988號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種高通量制備貴金屬氧化物涂層電極的方法，該方法包括：在純鈦或鈦合金方片試樣板上，按等距、行列規(guī)則排列沖出半球形凹坑；根據(jù)制備貴金屬氧化物涂層的元素要求和成分范圍、凹坑體積，確定得到坑號?貴金屬氧化物涂層成分?配置溶液體積比的表格；將根據(jù)表格數(shù)據(jù)配置的各坑對應(yīng)成分的溶液加入到相應(yīng)的凹坑中填滿并烤干，取出試樣板；將試樣板放入電爐中加熱處理，冷卻后按照凹坑剪切為小方片或長條，得到相應(yīng)成分的涂有貴金屬氧化物涂層的電極。本發(fā)明通過高通量制備大量貴金屬氧化物涂層電極，節(jié)約了貴金屬，且制備工藝簡單、高效，適合進(jìn)行科學(xué)研究和生產(chǎn)工藝研究，可以應(yīng)用于電化學(xué)領(lǐng)域中的氯堿工業(yè)、電催化、電極材料等。