晶體管的制造方法、晶體管、基本存儲單元、以及動態(tài)隨機存取存儲器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110411368.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113517346A | 公開(公告)日 | 2021-10-19 |
申請公布號 | CN113517346A | 申請公布日 | 2021-10-19 |
分類號 | H01L29/78(2006.01)I;H01L27/108(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 華文宇;薛迎飛 | 申請(專利權(quán))人 | 芯盟科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 上海盈盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 孫佳胤 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧經(jīng)濟開發(fā)區(qū)隆興路118號內(nèi)主辦公樓2129室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種晶體管的制造方法、晶體管、基本存儲單元、以及動態(tài)隨機存取存儲器。所述方法包括如下步驟:形成柱狀導(dǎo)電溝道;形成環(huán)繞所述柱狀導(dǎo)電溝道的柵絕緣層,并暴露所述柱狀導(dǎo)電溝道兩端;形成環(huán)繞所述柵絕緣層的柵電極;在所述柱狀導(dǎo)電溝道兩端形成源電極和漏電極。上述晶體管是從現(xiàn)有技術(shù)的水平方向的晶體管改進為垂直方向,從而使得單個晶體管在水平方向上所占的面積減少,單位面積的晶體管數(shù)量增加,提高了晶體管密度。 |
