半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110774725.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN113517292A | 公開(kāi)(公告)日 | 2021-10-19 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113517292A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-10-19 |
分類(lèi)號(hào) | H01L27/108(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉藩東;華文宇;駱中偉 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 芯盟科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 徐文欣 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧市海寧經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)隆興路118號(hào)內(nèi)主辦公樓2129室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法,其中方法包括:自所述第二面對(duì)所述襯底進(jìn)行減薄處理,直到暴露出所述第一隔離層表面;形成所述各有源區(qū)內(nèi)的第二隔離層,所述第二隔離層在所述襯底表面的投影位于相鄰的所述字線(xiàn)柵極結(jié)構(gòu)在所述襯底表面的投影之間;在所述第一面上形成若干位線(xiàn),在所述減薄處理后的所述第二面上形成若干電容,所述位線(xiàn)平行于所述第二方向,且每條位線(xiàn)與若干所述有源區(qū)電連接,每個(gè)所述有源區(qū)與兩個(gè)電容電連接;或者,在所述減薄厚的第二面上形成若干位線(xiàn),在所述第一面上形成若干電容,所述位線(xiàn)平行于所述第二方向,且每條位線(xiàn)與若干所述有源區(qū)電連接,每個(gè)所述有源區(qū)與兩個(gè)電容電連接,簡(jiǎn)化了工藝的難度,提高了芯片的集成化水平。 |
