T型雙溝道晶體管及制造方法、半導體器件及制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110424667.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113506738A | 公開(公告)日 | 2021-10-15 |
申請公布號 | CN113506738A | 申請公布日 | 2021-10-15 |
分類號 | H01L21/336(2006.01)I;H01L27/108(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L21/8242(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 華文宇;王喜龍 | 申請(專利權)人 | 芯盟科技有限公司 |
代理機構 | 北京派特恩知識產權代理有限公司 | 代理人 | 胡亮;張穎玲 |
地址 | 314400浙江省嘉興市海寧市經(jīng)濟開發(fā)區(qū)雙聯(lián)路129號天通9號樓5樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請實施例提供一種T型雙溝道晶體管及制造方法、半導體器件及制造方法,所述T型雙溝道晶體管的制造方法包括:提供一晶圓,所述晶圓具有多個晶體管形成區(qū)域,每一晶體管形成區(qū)域具有一晶體管柱,每一晶體管柱在第一方向上具有相對裸露的第一臺階側壁和第二臺階側壁;分別在所述第一臺階側壁和所述第二臺階側壁上依次形成具有臺階結構的柵極氧化層和柵極;在所述晶體管柱的第一端,形成源極;在所述晶體管柱的第二端,形成漏極,其中,第一端和第二端分別為晶體管柱在第二方向上相對的兩端,第二方向為所述晶圓的厚度方向,第二方向垂直于第一方向;所述源極和所述漏極之間的晶體管柱構成所述T型雙溝道晶體管的雙溝道區(qū)。 |
