用于離心的雙溫區(qū)裝置及微流控分析裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201911105029.5 申請日 -
公開（公告）號 CN110947440B 公開（公告）日 2021-11-02
申請公布號 CN110947440B 申請公布日 2021-11-02
分類號 B01L7/00（2006.01）I;C12M1/00（2006.01）I;C12M1/38（2006.01）I;C12M1/36（2006.01）I;C12M1/02（2006.01）I 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 陳運 申請（專利權）人 深圳市剛竹醫(yī)療科技有限公司
代理機構 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 代理人 黃鴻華
地址 518051廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道茶光路1089號深圳集成電路設計應用產(chǎn)業(yè)園511-1
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及用于離心的雙溫區(qū)裝置及微流控分析裝置，雙溫區(qū)裝置設有內(nèi)溫區(qū)及內(nèi)溫區(qū)開口，雙溫區(qū)裝置于內(nèi)溫區(qū)中設有內(nèi)溫區(qū)加熱組件；雙溫區(qū)裝置設有外溫區(qū)及外溫區(qū)開口，雙溫區(qū)裝置于外溫區(qū)中設有外溫區(qū)加熱組件；內(nèi)溫區(qū)與外溫區(qū)之間設有保溫隔離結構，保溫隔離結構具有開槽以使待離心結構的一部分容置于內(nèi)溫區(qū)且待離心結構的其余部分容置于外溫區(qū)，外溫區(qū)具有外溫區(qū)入口及封蓋結構。適用于對于溫度需求差異化的離心體系中，一方面有利于滿足不同反應階段對溫度的不同需求，另一方面有利于適應更為復雜的反應體系，可設計針對不同的溫升速率的不同溫度反應體系，再一方面通過外溫區(qū)入口的設計有利于實現(xiàn)風冷降溫，從而提升外溫區(qū)的溫降速率。