一種薄膜生長的自校準(zhǔn)實時測溫裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201310654540.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN104697636B | 公開(公告)日 | 2018-05-01 |
申請公布號 | CN104697636B | 申請公布日 | 2018-05-01 |
分類號 | G01J5/00;G01J5/08 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 馬鐵中;嚴(yán)冬;王林梓;劉健鵬;焦宏達 | 申請(專利權(quán))人 | 北京智朗芯光科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 | 代理人 | 劉杰 |
地址 | 102206 北京市昌平區(qū)昌平路97號新元科技園B座503室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種薄膜生長反應(yīng)腔室設(shè)備實時測溫系統(tǒng)自校準(zhǔn)裝置,屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域。該裝置包括實際熱輻射比值獲取單元和校準(zhǔn)系數(shù)計算單元,實際熱輻射比值獲取單元用于獲取實際熱輻射比值;校準(zhǔn)系數(shù)計算單元根據(jù)實際熱輻射比值,在理論熱輻射比值?溫度曲線上與實際熱輻射比值對應(yīng)的點,并將該點對應(yīng)的溫度T的值代入公式,分別得到校準(zhǔn)系數(shù)m1和m2。該裝置能夠得到雙波長測溫結(jié)構(gòu)中第一種波長λ1和第二種波長λ2分別對應(yīng)的校準(zhǔn)系數(shù)m1和m2,從而實現(xiàn)了薄膜生長反應(yīng)腔室設(shè)備實時測溫系統(tǒng)自校準(zhǔn),能夠保證外延片生長溫度測量一致而又精確。 |
