一種激光微細(xì)熔覆制備析氫電極儲(chǔ)氫層的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201510712391.4 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN105200421A 公開(kāi)（公告）日 2015-12-30
申請(qǐng)公布號(hào) CN105200421A 申請(qǐng)公布日 2015-12-30
分類號(hào) C23C24/10(2006.01)I;C25B11/10(2006.01)I;C25B11/03(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳中忠;黃小彬;沈陳炎 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 派新（上海）能源技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海信好專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 賈慧琴
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張江高科技園區(qū)蔡倫路1690號(hào)2號(hào)樓207室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種激光微細(xì)熔覆制備析氫電極儲(chǔ)氫層的方法，該方法是經(jīng)激光將混合稀土儲(chǔ)氫合金粉末微細(xì)熔覆在鎳基體上以制備儲(chǔ)氫層，該混合稀土儲(chǔ)氫合金粉末包括：MmNi5-x(Co,Mn,Al)x，其中，Mm指La、Ce、Pr、Nd中的一種或幾種，x=0~1.2。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所制備的儲(chǔ)氫層組織致密、晶粒細(xì)化、與鎳基體結(jié)合力牢、接觸電阻小，具有“孔洞”結(jié)構(gòu)，儲(chǔ)氫性能大幅提高。在間歇電解條件下，包含本發(fā)明制備的儲(chǔ)氫層的析氫電極不僅具有較高的析氫反應(yīng)的電催化活性和連續(xù)電解的電化學(xué)穩(wěn)定性，而且具有較強(qiáng)的抗逆電流性能。本發(fā)明制備工藝簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化，材料損耗少，經(jīng)濟(jì)可行性強(qiáng)，具有非常好的市場(chǎng)應(yīng)用前景。